Anwendung:
MZS ist Hochfrequenzerschütterungs-Schirm für grobe Siebung des chemischen Halbstoffs, der halbchemischen Masse, des mechanischen Halbstoffs, des TMP und der Sekundärfaser, sowie Faserwiederaufnahme von den Ausschüßen des unter Druck gesetzten Schirmes und des deflaker am meisten benutzt.
Technische hauptsächlichdaten:
Art Einzelteil | MZS1 | MZS2 | MZS3 | MZS4 | MZS5 |
Kapazität (t/d) | 2~10 | 5~20 | 10~40 | 15~70 | 20~100 |
Schirm Aream2 | 0.5 | 1 | 2 | 3 | 4 |
Durchmesser des Lochs (Millimeter) | Φ1.2~Φ2 | ||||
Schlitz-Breite (Millimeter) | 0.5~0.8 | ||||
Eingangs-Übereinstimmung (%) | 0.5~2 | ||||
Energie (Kilowatt) | 2.2 | 2.2 | 3 | 4 | 5.5 |
China
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