ITO Puder Hersteller & Lieferanten auf Alibaba.com

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Ansicht-ursprüngliche Größe

ITO Puder

  • Ursprungsort: China
  • Modellnummer: ITO Powder
  • Hafen: Xiamen Port
  • Zahlungs-Ausdrücke: L/C,T/T
  • Mindestbestellmenge: 1 Kilogram Entsprechend dem Kunde `s requestment
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 1 Metric Ton per Monat
  • Paket: Paket: Wie pro Antrag
  • Lieferfrist: 10 Tage
  • Nom de marque: xmzl
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Merkmale & Beschreibung von ITO Puder

Eigenschaften:
1) Produktname: ITO Puder (Indium-Zinnoxidpuder)

2) Chemische Formel In2O3/SnO2

3) Reinheit: mehr als 99.99% (Reinheit geprüft durch ICPAES Mittel)

4) Teilchengröße 20~70nm

5) Relative Dichte 7.12~7.16g/cm3

6) Farben-Gelb

7) Hauptanwendung: Leitender Kleber der transparenten Elektrizität, Strahlenschutz, Schutz des Infrarotstrahls (IR) und Antistatikanstrich.

Falls Sie Verbesserungsvorschläge zu unseren Übersetzungen haben, sind wir froh, um Ihre Mithilfe!
Niobium-Ziel
Das Niobiumziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten
Silbernes Ziel
Das Silberziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten
Titanziel
Das Titan-Ziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten
Wolframziel
Das Wolframziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten
Notiz:-Ziel
Das Notiz:-Ziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten
Molybdenum&Niobium Ziel
Das Molybdenum&Niobium Ziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten
Molybdän-Behälter
Alle Art Molybdänverdampfungboot sind nach Ansicht des Kunden vorhanden, `s, das requestment .please frei glauben in Verbindung zu treten.
W-Ziel
Das Wolframziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten
Aluminiumziel
Das Aluminiumziel dient als die Rohstoffe für die spritzenabsetzung einer Vielzahl der Dünnfilme und der Schichten


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