Art

TZB450A

TZB450B

TZB450C

Schichtsmethode

Widerstandverdampfungschicht + Handschuhschachtel

Magnetronspritzenschicht + Handschuhschachtel

Spritzendes Widerstand-Verdampfung + Magnetron + Handschuhschachtel

Filmarten

Einfache Substanz, Oxid-, Dielektrikum-, Halbleiterverbundfilme, etc.

Metall-/Nichtmetallfilme, etc.

Filme der einfachen Substanz, Halbleiterfilme, organische Filme, Oxidfilme, Reaktionsfilme, dielektrische Filme, Supraleiterfilme, Metallkeramikfilme, optische Filme, etc.

Spg.Versorgungsteil

Evapourate Spg.Versorgungsteil

DC/Bipolar pulse/RF Spg.Versorgungsteil

evapourate/zweipoliges ImpulsSpg.Versorgungsteil

Elektroden und Ziele

Elektroden

Einige Magnetronspritzenziele

Elektroden, Magnetronspritzenziel

Maß der Unterdruckkammer

Φ450×H400 Millimeter

Struktur der Unterdruckkammer

Vor-öffnen Sie vertikale Strukturen, die Pumpsysteme des Postposition, manuell drücken-und-ziehen Weise

Höchstes erreichtes Vakuum

6. PA 6×10-5

Vakuumpumpen

Molekulare Pumpe + mechanische Pumpe

Pumpende Geschwindigkeit

Pumpen time≤20 Minute (molekulare Minute) der Pumpe/50 (Diffusionspumpe), vom atmosphärischen Druck zu 10-3Pa

Filmgleichförmigkeit

Die Fluktuationen der Schichtstärke sind kleiner als 5%

Struktur der Elektroden

Elektroden

Magnetronspritzen

ImpulsSpg.Versorgungsteil + dauerhaftes magnetisches targets× 1-3

Glühtemperatur des Werkstückes

Justierbar und kontrollierbar von Raumtemperatur zu °C 300 (PID-Temperaturüberwachung)

Bewegung des Werkstückes

0-20 U/min justierbar und kontrollierbare stepless Geschwindigkeitsänderungsrevolution/-umdrehung

Vakuumsteuerung

Manuelle Steuerung

Vakuummaß

Niedrig-hohes digitales zusammengesetztes Vakuumlehre × 2

Vakuumsteuerung

Handbuch/PLC/PLC-+ HMI Steuerung

Schutz

Warnung und automatischer Schutz arbeiten für Wasserentleerung, anormaler Fluss, über dem gegenwärtigen Fließen, über Spannung und elektrische Abschaltung, etc.

Grundlegende Parameter

Kilowatt Power≥12; Gedienter Bereich: 9 m2; Gewicht: ~800 Kilogramm

Wahlweise freigestellte Vorrichtungen

Quarzoszillator-Schichtstärkenmonitor, Hall-Ionenquelle, Wasserkühlung u. Wiederverwertung Maschine, Anti-Spritzen Reinigung, zusammendrückende Maschine der Luft