Art

PECVD-200

PECVD-450

PECVD-650

Maß des Absetzungraumes

Φ230×H300 Millimeter

Φ450×H400 Millimeter

Φ650×H600 Millimeter

Maß der Substratplattform

Φ100×10 Millimeter

Φ120×12 Millimeter

Φ150×15 Millimeter

Umdrehungsrate der Substratplattform

0-20 U/min (justierbar)

Spg.Versorgungsteil

Rf-Spg.Versorgungsteil

Vakuumpumpen

Molekulare Pumpe + mechanische Pumpe

Höchstes erreichtes Vakuum

6. PA 6 ×10-5

Filmarten

Nichtleiter/Halbleiter/Metallschicht

GasSteuerung des Datenflusses

3-4 Straßengas-Steuerung des Datenflusses (wahlweise freigestellt)

Unterdruckkammer

Vor-öffnen Sie vertikale Strukturen, Unter-Position Pumpsysteme

Pumpende Geschwindigkeit

Pumpende Minute time≤30, vom atmosphärischen Druck zu 10-3Pa

Filmgleichförmigkeit

Die Fluktuationen der Schichtstärke sind kleiner als 5%

Vakuummaß

Digital-zusammengesetzte Vakuumlehren, Vakuummaß, das vom atmosphärischen Druck bis zu PA 10-6 reicht

Vakuumsteuerung

Vorhandenes Handbuch/PLC/PLC+HMI Steuerung (wahlweise freigestellt)

Schutz

Warnung und automatischer Schutz arbeiten für Wasserentleerung, anormaler Fluss, über dem gegenwärtigen Fließen, über Spannung und elektrische Abschaltung, etc.

Grundlegende Parameter

Kilowatt Power≥10; Gedienter Bereich: 4-20 m2; Gewicht 100-800 Kilogramm

Wahlweise freigestellte Vorrichtungen

Wasserkühlung u. Wiederverwertung Maschine, Restgasanalysator