Art

ZHD450 A

ZHD450 B

ZHD450 C

Schichtsmethode

Widerstandverdampfungschicht

Widerstand-/Elektronenstrahlverdampfungschicht

Widerstandverdampfung + Magnetronspritzen

Filmarten

Organische Filme oder Metallfilme etc.

Mehrschichtige Filme, verschiedene Filterfilme, Reflexionsfilme, Getriebefilme? etc.

Einzelne Substanzfilme, Halbleiterfilme, organische Filme, Oxidfilme, Reaktionsfilme, dielektrische Filme, Halbleiterfilme, OLED Vorrichtungen, etc.

Spg.Versorgungsteil

Evapourate Spg.Versorgungsteil

Evapourate Spg.Versorgungsteil, Elektrongewehr-Spg.Versorgungsteil

Evapourate Spg.Versorgungsteil, ImpulsSpg.Versorgungsteil

Elektroden und Ziele

Elektroden

Elektroden, Eart Elektrongewehr

Elektroden, Kreisfläche-Magnetronspritzenziel

Vakuumsteuerung

Vorhandenes Handbuch/PLC/PLC+HMI Steuerung (wahlweise freigestellt)

Maß der Unterdruckkammer

Φ450×H500 Millimeter

Unterdruckkammer

Vor-öffnen Sie vertikale Strukturen, die Pumpsysteme des Postposition, manuell drücken-und-ziehen Weise

Vakuumpumpen

Molekulare/Diffusionspumpe + mechanische Pumpe

Pumpende Geschwindigkeit

Pumpen time≤20 Minute (molekulare Minute) der Pumpe/50 (Diffusionspumpe), vom atmosphärischen Druck zu 10-3Pa

Filmgleichförmigkeit

Die Fluktuationen der Schichtstärke sind kleiner als 5%

Struktur der Elektroden

Wassererkühlungelektroden

Glühtemperatur des Werkstückes

Justierbar und kontrollierbar von Raumtemperatur zu °C 300 (PID-Temperaturüberwachung)

Bewegung des Werkstückes

0-20 U/min justierbar und kontrollierbare stepless Geschwindigkeitsänderungsrevolution/-umdrehung

Vakuummaß

Zwei digitale zusammengesetzte Vakuumlehren

Schutz

Warnung und automatischer Schutz arbeiten für Wasserentleerung, anormaler Fluss, über dem gegenwärtigen Fließen, über Spannung und elektrische Abschaltung, etc.

Grundlegende Parameter

Kilowatt Power≥12; Gedienter Bereich: 12 m2; Gewicht: ~1200 Kilogramm

Wahlweise freigestellte Vorrichtungen

Quarzoszillator-Schichtstärkenmonitor, Wasserkühlung u. Wiederverwertung Maschine