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DC und RF 3-kopf vakuum plasma sputter PVD beschichtung maschine für verschiedene nano film
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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
6 yrs
CN
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Hauptmerkmale
Andere Merkmale
Art
Schichts-Fließband
Maschine Typ
vacuum PVD coating
Video ausgehenden-inspektion
Zur verfügung gestellt
Maschinen Prüfbericht
Zur verfügung gestellt
Marketing Typ
Heißer Produkt 2019
Garantie von core komponenten
1 JAHR
Core Komponenten
Pumpe, DC/RF power supply
Ursprungsort
Henan, China
Garantie
1 JAHR
Schlüssel Verkauf Punkte
Günstigen Preis
Anwendbar Branchen
Labor R & D
Showroom Lage
Keine
Substrat
Edelstahl
Bedingung
Neu
Schicht
Vakuumschicht
Markenname
TN
Spannung
AC220V,50Hz
Energie (W)
4KW
Maß (L*W*H)
600mm*650mm*1280mm
name
Three-target magnetron sputtering coater
Application
alloy, semiconductor, ceramic, optical, oxide, hard, PTFE
Coating Technology
Magnetron Sputtering Coating
Sample stage
Dia.140mm,500C,20rpm adjustable
Magnetron Sputtering head
2"*3 (1",2" optional)
Vacuum chamber
Dia.300mm*300mm,Stainless steel
Mass flowmeter
2 channels; measuring range 100SCCM; 100SCCM
Ultimate vacuum
1.0E-5Pa
Vacuum pump
Rotary vane pump Molecular pump
power supply
DC*2,RF
Verpackung und Lieferung
Details zur Verpackung
Dual-Head Magnetron Plasma Sputtering system
Plastic paper inside,polyfoam filled,wooden box outside
Hafen
Zhengzhou,QingdaoTianjin, Beijing ,Ningbo,etc.
Lieferfähigkeit
Lieferfähigkeit
100 Satz/Sätze per Month
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Beschaffungszeit
Menge (Sätze)
1 - 1
> 1
Vsl. Dauer (Tage)
60
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