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      PECVD von TEOS SiO2 VCSEL Herstellung Siliziumnitrid und Siliziumdioxid RF Plasma 1000 C Rohrofen von professionellem STA

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      Sta Refractory (zhengzhou) Co., Ltd.12 yrsCN
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      Hauptmerkmale

      Andere Merkmale

      Ursprungsort
      Henan, China
      Bedingung
      Neu
      Art
      Widerstandsofen
      Video ausgehenden-inspektion
      Zur verfügung gestellt
      Maschinen Prüfbericht
      Zur verfügung gestellt
      Marketing Typ
      Heißes Produkt 2024
      Garantie von core komponenten
      1 JAHR
      Core Komponenten
      Gas förder system, Reaktor kammer, Energie quelle, Vakuums ystem, Abgasanlage
      Gewicht (T)
      0,2 T
      Leistung (kW)
      Auf Anfrage
      Garantie
      1 JAHR
      Schlüssel Verkauf Punkte
      Lange Lebensdauer
      Anwendbar Branchen
      Halbleiter, Silizium-Wafer-Vorbereitung
      Showroom Lage
      Ägypten, Türkei, Großbritannien, Italien, Viet Nam, Philippinen, Peru, Indien, Russland, Spanien, Thailand, Rumänien, Bangladesch
      Verbrauch
      Wärmebehandlung-Ofen
      Markenname
      STA
      Spannung
      220/380V
      Maß (L*W*H)
      Auf Anfrage
      Max Temperatur
      1200 ℃
      Arbeits temperatur
      1100 ℃
      Temperatur genauigkeit
      0 ~ 20 Grad c/min
      Abkühlende Rate
      0 ~ 10c/min
      Heizelemente
      Widerstands heizelement
      Thermo element
      K Typ
      Sicherheits funktion
      Sicherheits verriegelung system
      Überhitzung schutz
      Stromausfall schutz
      Anwendung
      Diamant-Graphen-Film

      Verpackung und Lieferung

      Verkaufseinheiten:
      Einzelartikel
      Einzelpackungsgröße:
      40X15X12 cm
      Einzelbruttogewicht:
      1.000 kg
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      Vsl. Dauer (Tage)30Zu verhandeln
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