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HF-Magnetron-Drei-Pistolen-Sputter-Abscheidung beschichtung maschine mit USV-Leistung

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Hauptmerkmale

Andere Merkmale

Art
PVD
Maschine Typ
magnetron sputter
Video ausgehenden-inspektion
Zur verfügung gestellt
Maschinen Prüfbericht
Zur verfügung gestellt
Marketing Typ
Gewöhnlichen Produkt
Garantie von core komponenten
1 JAHR
Core Komponenten
Pumpe
Ursprungsort
Henan, China
Garantie
1 JAHR
Schlüssel Verkauf Punkte
Günstigen Preis
Anwendbar Branchen
Other
Showroom Lage
Keine
Gewicht (KG)
350
Substrat
Stahl
Bedingung
Neu
Schicht
Vakuumschicht
Markenname
TN
Spannung
AC 220V,50/60Hz
Energie (W)
16 kW
Maß (L*W*H)
600mm*650mm*1280mm
Maschine Typ
Beschichtung Ausrüstung
UPS
38AH 20KVA 16KW, 1 hour delay 16 batteries
Chamber Dimension
Dia. 325 mm * H 385 mm
Chamber material
304 stainless steel
Top sample holder
Dia. 150mm
Rotary speed
0-40rpm adjustable
Heating temperature
up to 700 ℃
Water Chiller
2.3m3/h 3P 8250Kcal/h
Magnetron Sputtering Gun
2'' with automatic shutter
RF Generator
300W with auto match
MFC mass flow control
3-channel up to 20sccm(Ar, O2 and N2)

Verpackung und Lieferung

Details zur Verpackung
wooden case

Lieferfähigkeit

Lieferfähigkeit
100 Satz/Sätze per Month

Beschaffungszeit

Menge (Sätze)1 - 2 > 2
Vsl. Dauer (Tage)60Zu verhandeln

Kundenspezifische Anpassung

individuelles Logo
Min. Auftrag: 3
individuelle Verpackung
Min. Auftrag: 3
Grafikanpassung
Min. Auftrag: 3

Produktbeschreibungen vom Lieferanten

>= 1 Sätze
61.000,00 $

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