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ICP-Labor-PR-Entfernungs maschine für die Halbleiter industrie Photo resist Residual Removal

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Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.Mehrfach spezialisierter Lieferant10 yrsCN
ICP-Labor-PR-Entfernungs maschine für die Halbleiter industrie Photo resist Residual Removal
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Haupteigenschaften

Branchenspezifische

Markenname
minder-hightech

Weitere

Gewicht (KG)
1000
Garantie
1 JAHR
Video ausgehenden-inspektion
Zur verfügung gestellt
Maschinen Prüfbericht
Zur verfügung gestellt
Core Komponenten
Motor
Ursprungsort
Guangdong, China

Verpackung und Lieferung

Verkaufseinheiten:
Einzelartikel
Einzelpackungsgröße:
120X180X120 cm
Einzelbruttogewicht:
1000.000 kg

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