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Single Target Vacuum Plasma Sputter ing Coater zur Herstellung von Gold-, Platin-, Indium-und Silber beschichtungen
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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
7 yrs
CN
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Hauptmerkmale
Andere Merkmale
Art
Schichts-Fließband
Ursprungsort
Henan, China
Garantie
Ein jahr
Substrat
Stahl
Bedingung
Neu
Schicht
Vakuumschicht
Markenname
TN
Spannung
Einphasig 208 ~ 240 VAC
Energie (W)
1000 w
Maß (L*W*H)
480mm l * mm w * mm h
Kundendienst zur Verfügung gestellt
Ingenieure zur Verfügung, um Maschinen in Übersee zu warten
Anwendung
Herstellung von metallischen Beschichtungen
Produktname
Single Target Vakuum Plasma Sputter besch ichter
Technologie
Plasma technologie
Beschichtung material
Metall targets
Ausbildung
Beschichtung strain ing
Kammer material
Quarzglas
Größe
480mm l * mm w * mm h
Schlüssel wörter
Plasma-Sputter besch ichter zur Herstellung von Gold-Platin-und Silber beschichtungen
Modell
TN-1100X-SPC12
Vakuums ystem
Zweistufige Drehschieber-Vakuumpumpe
Gewicht
20 kg
Zertifizierung
Ce
Verpackung und Lieferung
Details zur Verpackung
Kunststoff papier innen, poly foam gefüllt, holzkiste außerhalb oder als ihre anforderung.
Hafen
Zhengzhou, Beijing etc.
Lieferfähigkeit
Lieferfähigkeit
150 Satz/Sätze per Month
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Beschaffungszeit
Menge (Sätze)
1 - 1
> 1
Vsl. Dauer (Tage)
45
Zu verhandeln
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Min. Auftrag: 1
individuelle Verpackung
Min. Auftrag: 1
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Min. Auftrag: 1
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1 - 9 Sätze
4.600,00 $
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3.100,00 $
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