Tischplatte Quarz-Hohlraum einzel-Ziel-Magnetron-Sputterungsgerät wird für Labor-Gold- und Kupfermetallfolien verwendet

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Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

Kundenspezifische Hersteller10 yrs

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Hauptmerkmale

Andere Merkmale

Art

PVD

Maschine Typ

Magnetron sputtering coater

Video ausgehenden-inspektion

Zur verfügung gestellt

Maschinen Prüfbericht

Zur verfügung gestellt

Marketing Typ

New Product 2024

Garantie von core komponenten

1 JAHR

Core Komponenten

Druckbehälter, Pumpe

Ursprungsort

Henan, China

Garantie

1 JAHR

Schlüssel Verkauf Punkte

Günstigen Preis

Anwendbar Branchen

Other

Showroom Lage

Keine

Gewicht (KG)

Substrat

Quartz

Bedingung

Neu

Schicht

Vakuumschicht

Markenname

Spannung

220V,50HZ

Energie (W)

2kW

Maß (L*W*H)

550x350x1200mm

Maschine Typ

Beschichtung Ausrüstung

Product name

Single target magnetron sputtering coater

Keywords

Magnetron sputtering

Application

Coating thin film

Vacuum chamber materiaL

High purity quartz

Magnetron Sputtering target head

1 magnetron sputtering heads

Sample stage size

Diam 100 mm

Target size

Diameter 50*3 mm

Vacuum pump

molecular pump system 80L/S

Cooling system

600 L/min

The power supply voltage

220V,50HZ

Verpackung und Lieferung

Verkaufseinheiten:

Einzelartikel

Einzelpackungsgröße:

55X35X120 cm

Einzelbruttogewicht:

50.000 kg

Beschaffungszeit

Menge (Kisten)	1 - 1	> 1
Vsl. Dauer (Tage)	60	Zu verhandeln

Produktbeschreibungen vom Lieferanten

1 - 1 Kisten

17.500,00 $

>= 2 Kisten

16.800,00 $

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