Zhongwei UV-Exposition Mikro-Nano-3D-Druckausrüstung 1um hochauflösende mikro-lithografische Linse

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Hangzhou Zhongwei Optics Co., Ltd.1 yr

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Hauptmerkmale

Zentrale Industriespezifikation

Verbrauch

Optische

Struktur

combination

Form

Zylindrischen

Andere Merkmale

Ursprungsort

Zhejiang, China

Garantie

3 jahre

Maßgeschneiderte unterstützung

OEM, ODM, OBM

Markenname

ZHONGWEI

Modellnummer

GKUM1

Größe

1.34"(Dia34.2mm)

Gewicht

18.9kg

Product name

microlithography lens

Model No.

GKUM1

Minimum line width

0.6μm

Magnification ratio

0.17

Image side numerical aperture

0.53

Image side Maximum exposure diameter

Dia5.8mm

Maximum supported size of SLM

1.34"(Dia34.2mm)

Operating wavelength

405nm

Optical distortion

0.01%

Effective working distance

3.12mm

Verpackung und Lieferung

Verkaufseinheiten:

Einzelartikel

Einzelpackungsgröße:

10X25X15 cm

Einzelbruttogewicht:

0.006 kg

Beschaffungszeit

Menge (Stück)	1 - 10	> 10
Vsl. Dauer (Tage)	20	Zu verhandeln

Kundenspezifische Anpassung

Customized logo

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Customized packaging

Min. Auftrag: 100

Graphic customization

Min. Auftrag: 100

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