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Rf palsma vakuum CVD beschichtung maschine für optische glas, silizium, quarz, stahl

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Hauptmerkmale

Andere Merkmale

Art
chemical vapor deposition
Maschine Typ
chemical vapor deposition
Video ausgehenden-inspektion
Zur verfügung gestellt
Maschinen Prüfbericht
Zur verfügung gestellt
Marketing Typ
Heißer Produkt 2019
Garantie von core komponenten
1 JAHR
Core Komponenten
Pumpe, RF power
Ursprungsort
Henan, China
Garantie
1 JAHR
Schlüssel Verkauf Punkte
Günstigen Preis
Anwendbar Branchen
lab
Showroom Lage
Keine
Bedingung
Neu
Schicht
Vakuumschicht
Markenname
TN
Spannung
220AVC/50hz
Energie (W)
ustomized
Maß (L*W*H)
1100mm *800mm *1100mm
Product name
PECVD vacuum coater
Application
depositing thin films of silicon nitride, amorphous silicon
Chamber material
stainless steel
Chamber size
diam300mm X 300mm
viewing window
diam100mm with baffle
Vacuum pump
rotary vane pump+Turbo molecular pump
Limiting vacuum
10-6Pa
Vacuum(deposition)
0.133~133Pa
RF power
13.56MHz,500W (automatch)
Flow control
mass flowmeter(default Ar,0~200sccm)

Verpackung und Lieferung

Details zur Verpackung
Plastic paper inside, polyfoam filled, plywood box outside
Hafen
Zhengzhou, Beijing, Shanghai etc.

Lieferfähigkeit

Lieferfähigkeit
100 Satz/Sätze per Month

Beschaffungszeit

Menge (Sätze)1 - 1 > 1
Vsl. Dauer (Tage)30Zu verhandeln

Kundenspezifische Anpassung

individuelles Logo
Min. Auftrag: 1
individuelle Verpackung
Min. Auftrag: 1
Grafikanpassung
Min. Auftrag: 1

Produktbeschreibungen vom Lieferanten

Mindestbestellmenge: 1 Satz
268.925,54 CN¥ - 914.707,33 CN¥

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Optionen insgesamt:

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