Art
chemical vapor deposition
Maschine Typ
chemical vapor deposition
Video ausgehenden-inspektion
Zur verfügung gestellt
Maschinen Prüfbericht
Zur verfügung gestellt
Marketing Typ
Heißer Produkt 2019
Garantie von core komponenten
1 JAHR
Core Komponenten
Pumpe, RF power
Schlüssel Verkauf Punkte
Günstigen Preis
Maß (L*W*H)
1100mm *800mm *1100mm
Product name
PECVD vacuum coater
Application
depositing thin films of silicon nitride, amorphous silicon
Chamber material
stainless steel
Chamber size
diam300mm X 300mm
viewing window
diam100mm with baffle
Vacuum pump
rotary vane pump+Turbo molecular pump
Vacuum(deposition)
0.133~133Pa
RF power
13.56MHz,500W (automatch)
Flow control
mass flowmeter(default Ar,0~200sccm)